أعلنت شركة إنتل أنها أصبحت أول شركة لتصنيع أشباه الموصلات تنتج وتشحن منتجا منطقيا بكميات كبيرة باستخدام تقنية الطباعة الضوئية بالأشعة فوق البنفسجية القصوى ذات الفتحة العددية العالية High NA EUV من شركة ASML، في خطوة تعد تطورا مهما نحو اعتماد الجيل القادم من تقنيات تصنيع الرقائق.
وتشمل هذه الخطوة مجموعة من معالجات Intel Core Ultra Series 3 التي تحمل الاسم الرمزي Panther Lake، والتي تم تصنيعها باستخدام تقنية التصنيع Intel 18A.
وأكدت إنتل أن بعض طبقات التصنيع الخاصة بمعالج Intel 18A أصبحت مؤهلة للعمل عبر منصة High NA EUV في منشأتها بولاية أوريغون الأمريكية، مع وصول المنتجات إلى العملاء بمعدلات إنتاج مماثلة للمنصة الحالية NXE.
انتقال تقنية High NA EUV إلى الإنتاج التجاري
يمثل هذا الإعلان انتقال تقنية High NA EUV من مرحلة البحث والاختبارات الأولية إلى مرحلة التصنيع التجاري.
وأوضحت إنتل وشركة ASML أن التقنية تستخدم حاليا في طبقات محددة من الرقائق بهدف جمع بيانات التصنيع وتحسين إعدادات الأنظمة ورفع مستوى التشغيل المستمر وتحسين عمليات الإنتاج قبل توسيع استخدامها في عقد تصنيع مستقبلية.
وتعد تقنية High NA EUV الجيل التالي من تقنيات الطباعة الضوئية المستخدمة في صناعة أشباه الموصلات، حيث توفر دقة أعلى وقدرة أفضل على التحكم في عمليات تشكيل الأنماط الدقيقة على سطح الرقائق.
تقنية تدعم الجيل القادم من الذكاء الاصطناعي
تسمح الدقة الأعلى التي توفرها تقنية High NA EUV بتصنيع مكونات إلكترونية أصغر وأكثر تعقيدا، مما يساعد الشركات على إنتاج رقائق ذات كثافة أعلى وقدرات محسنة.
ويتوقع أن تلعب هذه التقنية دورا مهما في تطوير الحوسبة المتقدمة وتطبيقات الذكاء الاصطناعي، حيث تحتاج الأنظمة الحديثة إلى معالجات أكثر قوة وكفاءة.
تعاون طويل بين إنتل وASML
قالت شركة ASML إن هذا التطور جاء نتيجة تعاون استمر لعقود مع إنتل بهدف تطوير تقنيات تصنيع أشباه الموصلات.
وكانت إنتل قد ركبت أول نظام تجاري من تقنية High NA EUV في العالم داخل منشأة البحث والتطوير التابعة لها في هيلزبورو بولاية أوريغون عام 2024.
كما أصبحت لاحقا أول شركة تقوم بتركيب وتأهيل نظام TWINSCAN EXE:5200B من الجيل الثاني لشركة ASML، والذي يوفر سرعة إنتاج أعلى ودقة محسنة في محاذاة الطبقات ومصدر ضوء مطورا.
معالجات Panther Lake تعتمد على Intel 18A
يتم تصنيع معالجات Panther Lake باستخدام تقنية Intel 18A، مع استخدام High NA EUV في تشكيل بعض طبقات الرقائق.
وقالت إنتل إن هذا النهج يوفر خبرة عملية في التصنيع بهذه التقنية الجديدة، مع الحفاظ على أداء الإنتاج باستخدام المنصات الحالية.
وأوضح كريستوف فوكو، الرئيس التنفيذي لشركة ASML، أن إدخال تقنية High NA EUV يمثل تطورا كبيرا في مجال الطباعة الضوئية لأشباه الموصلات، مشيرا إلى أن التقنية ستساعد في إنتاج مكونات أصغر وأكثر كثافة، مما يسرع التطورات في الذكاء الاصطناعي والتقنيات الحديثة.
خطوة نحو تصنيع رقائق المستقبل
وصفت إنتل هذا الإنجاز بأنه خطوة مهمة نحو دمج تقنية High NA EUV في الإنتاج التجاري واسع النطاق، مع الحفاظ على المرونة اللازمة لتطوير تقنيات تصنيع مستقبلية.
وقال ناغا تشاندراسيكاران، نائب الرئيس التنفيذي والمدير العام لشركة Intel Foundry، إن هذا الإنجاز يعكس التعاون التقني الوثيق بين إنتل وASML، ويثبت إمكانية دمج التقنية الجديدة في عمليات تصنيع أشباه الموصلات المتقدمة على نطاق واسع.
وأكدت إنتل أن تأهيل تقنية High NA EUV في بعض طبقات منتجات Intel 18A يسمح لها بمواصلة الإنتاج التجاري، مع دراسة كيفية استخدام هذه التقنية في العقد المستقبلية التي ستوفر أداء أعلى وكثافة أكبر للترانزستورات ومرونة أفضل في التصنيع.
إنتل تضع تقنية الطباعة الضوئية الجديدة في السوق
مع دخول معالجات Panther Lake مرحلة الإنتاج بكميات كبيرة باستخدام تقنية High NA EUV، أصبحت إنتل أول شركة تشحن منتجات منطقية تجارية تعتمد على هذه التقنية.
ويمثل هذا الإنجاز دليلا مبكرا على انتقال تقنيات الطباعة الضوئية من المختبرات ومراحل التطوير إلى التصنيع واسع النطاق، مما قد يغير مستقبل صناعة الرقائق الإلكترونية خلال السنوات القادمة.